半導(dǎo)體生產(chǎn)中所需的超純水設(shè)備又是如何清洗保養(yǎng)的？

時(shí)間：2023-09-14

　　隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興市場(chǎng)的不斷發(fā)展，全球半導(dǎo)體行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模整體呈現(xiàn)增長趨勢(shì)。半導(dǎo)體作為一種在常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的一類材料，在集成電路、消費(fèi)電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電、照明應(yīng)用等領(lǐng)域中應(yīng)用良多。

　　這樣的半導(dǎo)體在生產(chǎn)中除了一道道工序外，還需要超純水設(shè)備的應(yīng)用來制備清洗用水，在長期應(yīng)用中許多用戶都有面臨一些問題，例如設(shè)備如何保養(yǎng)才能延長壽命，又或者是超純水設(shè)備停用應(yīng)該如何是好?今天我們就來解答一些關(guān)于超純水設(shè)備如何清洗保養(yǎng)。

　　具體情況如下：

　　1、將專用清洗液與處理后的純水在清洗藥箱內(nèi)混合。

　　2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至反滲透系統(tǒng)，并排走原水，防止清洗液稀釋。

　　3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定，用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。

　　4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時(shí)即可，污染較嚴(yán)重的反滲透膜可進(jìn)行更長時(shí)間的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使反滲透膜上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

　　6、用清水將清洗液沖去。設(shè)備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。

　　以上就是全文。關(guān)于半導(dǎo)體生產(chǎn)中應(yīng)用的超純水設(shè)備除了上述的清洗保養(yǎng)問題外，在使用與安裝過程中也都需要很注意，需要嚴(yán)格按照規(guī)范或者專人指導(dǎo)來操作，這樣才能保障設(shè)備的安全性和出水的穩(wěn)定性。

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　　編輯：柒柒技術(shù)：米

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